Час читання: < 1 хв.
Китай активно працює над створенням власного обладнання для екстремальної ультрафіолетової літографії (EUV), щоб подолати технологічні обмеження, накладені торговими санкціями США. Очікується, що випробувальне виробництво нових EUV машин розпочнеться у третьому кварталі 2025 року. Це обладнання, яке розробляється на базі нового методу з використанням плазми при розряді лазера, є більш простим та ефективним у порівнянні з існуючими технологіями компанії ASML.
Повідомляється, що нова система, що тестується на об’єкті Huawei у Дунгуані, використовує процес, при якому олово між електродами випаровується та перетворюється на плазму через високовольтний розряд, створюючи необхідну довжину хвилі EUV випромінювання 13,5 нм. Цей підхід обіцяє знизити витрати та споживання енергії порівняно з складнішими системами, що може значно знизити вартість виробництва напівпровідників.
Реклама
Створення власного EUV обладнання дозволить таким компаніям, як SMIC та Huawei, не лише скоротити залежність від західних технологій, а й покращити конкурентоспроможність на світовому ринку мікрочіпів. Особливо це важливо для Huawei, яка обмежена у розробці своїх чіпсетів Kirin процесом 7 нм та прагне скоротити технологічний відрив від таких гігантів, як Qualcomm та Apple.